薄層成像掃描儀2002

儀器簡介 
   薄層2002型薄層成像掃描儀是同德公司為了滿足薄層色譜分析需要而設(shè)計的便攜式新產(chǎn)品，它的處理速度快和分辨率高,而且具有噪音小、線性好的特性。儀器由光源、光學(xué)采樣系統(tǒng)、薄層色譜色譜工作站三大部分組成，薄層色譜工作站是目前國內(nèi)開發(fā)的 軟件，對儀器可全自動的控制同時還可對薄層色譜斑點進行定量處理.定量精度與進口產(chǎn)品相近,滿足藥廠\高校日常分析的需要，省時省力是您實驗室的好助手。 

薄層成像掃描儀2002 
儀器參數(shù) 
1.掃描方式：線性掃描，雙波長掃描，多通道掃描 
2.光源：254/365nm紫外光源、400-750可見光源。 
3.分辨率可達10um 
4.重現(xiàn)性:≥99%  
5. 檢測方式：反射法、熒光法。 
6、算法：歸一法，內(nèi)標法，外標法（一點直線法，兩點曲線法），符合藥典要求。 
7.軟件環(huán)境：WIN XP/2000/NT， 

儀器特點 
1. 有與單波長掃描,雙波長掃描，多通道掃描功能， 
2.對TLC斑點進行準確定量， 測量Rf值. 
3.對圖像可任意角度旋轉(zhuǎn),可對色彩亮度、飽和度、對比度進行校正。 
4. 可打印出峰位、Rf值、峰面積、含量、圖像的報告，符合分析要求 
5. 人性化中文軟件操作界面,無*圖譜數(shù)據(jù)庫管理， 
6．機內(nèi)配有圖文并茂的教學(xué)軟件，簡明方便，隨時調(diào)看

產(chǎn)品名稱：氧化鋯氧量分析儀 回流焊爐氧分析儀 產(chǎn)品型號：ZO－802

氧化鋯氧量分析儀/回流焊爐氧分析儀型號：ZO－802

ZO－802型氧化鋯氧分析儀是采用新的氧化鋯檢測技術(shù)和微機技術(shù)開發(fā)的新型分析儀器。可用于空分制氮、化工流程及玻璃、建材中氧含量的連續(xù)自動分析，也可用于電子行業(yè)保護氣體、磁性材料等高溫?zé)Y(jié)爐的保護性氣氛中氧含量的測量。其中專為回流焊爐、波峰焊爐設(shè)計的儀表，配有內(nèi)置采樣氣泵、外置過濾器和取樣管路。 

儀器特點: 
· 選用優(yōu)質(zhì)氧化鋯檢測元件，具有壽命長，反應(yīng)快等特點。 
· 采用大屏幕點陣液晶顯示，可同時顯示氧量、溫度、日期、時間等參數(shù)。 
· 采用全中文人機對話菜單，操作直觀方便。 
· 采用對流擴散式結(jié)構(gòu)，減少了流量對測量微量氧的影響。 
· 儀器具有從微量到常量共四檔量程，量程自動轉(zhuǎn)換。 
· 上、下限報警點能在全量程范圍內(nèi)任意設(shè)置。 
· 具有無紙記錄儀功能，自動記錄氧濃度隨時間的變化曲線。 
· 具有測量數(shù)據(jù)自動存貯功能，存貯的間隔時間由用戶設(shè)定。 
· 具有0~10或4~20ma電流信號輸出。 
· 儀器內(nèi)置進口采樣泵。 
· 儀器具有一個標準的RS232C通訊口，可以連接串口打印機與計算機實現(xiàn)雙向通訊。 

技術(shù)指標:  
· 測量范圍:0.1ppm~50%O2 
· 自動量程換檔：0~500ppm、0~5000ppm、0~5%、0~50%共4擋（自動換擋）。 
· 基本誤差:±2%FS 
· 重復(fù)性誤差：≤1.5% 
· 響應(yīng)時間：＜30s 
· 零點漂移：±2％FS/7d 
· 量程漂移：±2％FS/7d 
· 輸出信號：4～20mADC（允許外接負載＜800Ω) 
· 0～10mA DC(允許外接負載＜1600Ω) 
· 報警繼電器接點容量：220VAC/1A 
· 功耗：≤50W 
· 電源：220V±10%AC；50Hz±5% 
· 環(huán)境溫度：0~40℃ 
· 相對濕度：不大于90%(冷凝除外) 
· 大氣壓力：當(dāng)?shù)卮髿鈮毫?nbsp;
· 樣氣溫度：＜100℃ 
· 樣氣壓力范圍：常壓或微壓 
· 樣氣流量：500~700ml/min 
· 儀器外型尺寸：240×150×280mm（寬×高×深） 
· 安裝開孔尺寸：228×138mm 
· 重量：約8kg